इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण विधि एक प्रकारको भ्याकुम वाष्पीकरण कोटिंग हो, जसले भ्याकुम अवस्थाहरूमा वाष्पीकरण सामग्रीलाई सीधा तताउन, वाष्पीकरण सामग्रीलाई वाष्पीकरण गर्न र सब्सट्रेटमा ढुवानी गर्न, र सब्सट्रेटमा पातलो फिल्म बनाउनको लागि इलेक्ट्रोन बीमहरू प्रयोग गर्दछ।इलेक्ट्रोन बीम तताउने उपकरणमा, तातो पदार्थलाई पानी-कुल्ड क्रुसिबलमा राखिन्छ, जसले वाष्पीकरण सामग्री र क्रूसिबल पर्खाल बीचको प्रतिक्रियाबाट बच्न र फिल्मको गुणस्तरलाई असर गर्न सक्छ।एकैसाथ वा अलग वाष्पीकरण र विभिन्न पदार्थहरूको निक्षेप प्राप्त गर्न उपकरणमा बहु क्रुसिबलहरू राख्न सकिन्छ।इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण संग, कुनै पनि सामग्री वाष्पीकरण गर्न सकिन्छ।
इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरणले उच्च पिघलने बिन्दु सामग्री वाष्पीकरण गर्न सक्छ।सामान्य प्रतिरोधी ताप वाष्पीकरणको तुलनामा, यसमा उच्च थर्मल दक्षता, उच्च बीम वर्तमान घनत्व, र छिटो वाष्पीकरण गति छ।प्रवाहकीय गिलास जस्ता विभिन्न अप्टिकल सामग्रीको फिल्म र फिल्म।
इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरणको विशेषता यो हो कि यसले लक्ष्य त्रि-आयामी संरचनाको दुई पक्षलाई ढाक्दैन वा विरलै ढाक्छ, र सामान्यतया केवल लक्ष्य सतहमा जम्मा हुन्छ।यो इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण र स्पटरिंग बीचको भिन्नता हो।
इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण सामान्यतया अर्धचालक अनुसन्धान र उद्योग को क्षेत्र मा प्रयोग गरिन्छ।द्रुत इलेक्ट्रोन ऊर्जा सामग्री लक्ष्यलाई प्रहार गर्न प्रयोग गरिन्छ, जसले गर्दा भौतिक लक्ष्य वाष्पीकरण र माथि हुन्छ।अन्ततः लक्ष्यमा जम्मा गरियो।
पोस्ट समय: डिसेम्बर-02-2022